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第1357章 准备好了（第2页）

范德贝尔摆了摆手。

“问题等会儿再说，先看完。”

屏幕上切出第二组数据。

分辨率测试：45纳米线宽，清晰，没有畸变。

第三组，套刻精度：3。2纳米。

范德贝尔指着屏幕。

“这意味着，EUV光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量产只差最后一步。”

掌声又起来了。

发布会结束，记者围上去。

范德贝尔回答了十二个问题。最后一个，金融时报的记者问。

“首批量产设备的客户名单，能透露吗？”

范德贝尔笑了一下。

“首批设备将优先供应我们的长期合作伙伴——台积电，三星，英特尔。至于亚洲其他地区的客户，目前没有计划。”

这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。

彭博的标题。

“ASmL宣布EUV光刻机突破关键里程碑：亚洲客户被排除在首批名单外”

京城，后海。

下午三点。

张红旗坐在地下室。

面前一台电脑，屏幕上放的是ASmL发布会的网络直播回放。

他从头看到尾，看了两遍。

第一遍看范德贝尔说了什么。

第二遍看屏幕上那些数字。

62瓦，13。5纳米，99。2%，45纳米，3。2纳米。

他把这些数字一个一个抄在纸上。

陈默站在旁边，没说话。

张红旗把纸折好，装进信封。

“发鹏城，钱老亲启。今天就寄，用最快的。”

陈默接过去，走了。

五月十号。

鹏城，地下室。

钱院士把ASmL发布会的参数输进了模拟集群。

十台服务器跑了六个小时。

结果出来了。

钱院士把两张曲线图叠在一起。