五月八号。
荷兰,费尔德霍芬。
ASmL总部。
一栋灰色的方形建筑,门口竖了两块巨幅广告牌,蓝底白字。
“EUV:theFutureofSemiconductormanufacturing”
发布会定在上午十点。九点半人就到齐了。
三百多人,坐满了报告厅。
路透、彭博、金融时报、华尔街日报、日经新闻、法兰克福汇报——全球科技口的记者来了一半。
摄像机架了两排,闪光灯试了又试。
范德贝尔穿了件深蓝西装,白衬衫,没打领带。
他站在后台,助手递过来一杯水,他喝了一口,放下。
“准备好了?”
助手点头。
十点整,灯暗了。
范德贝尔走上台。
身后是一块十二米宽的LEd屏,屏上一行字。
“EUVAlphademoUnit—FirstLight”
掌声。
范德贝尔没废话。
“今天,我给各位看一样东西。”
屏幕切换,实时画面——隔壁的洁净室。
一台机器占了半间屋子,银白色外壳,管线密密麻麻。
范德贝尔拿起遥控器,按了一下。
洁净室里,工程师启动程序。
嗡的一声。
机器亮了。
屏幕上跳出一组数字。
光源功率:62瓦。
波长:13。5纳米。
曝光均匀性:99。2%。
报告厅安静了三秒。
然后掌声炸了。
范德贝尔站在台上,等掌声停了。
“62瓦。各位,我们原定的目标是50瓦,今天的实测数据超出了百分之二十四。”
台下记者开始举手。