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第584章 美国人惹上这家人真是倒了八辈子的血霉（第2页）

他指了指杯子里的水。

陈山转过头，看著倪光南，“老倪，水的折射率是多少？”

倪光南下意识地回答：“纯水的折射率是1。44。”

话音刚落，倪光南的身体猛地僵住了。

就像是一道闪电，瞬间劈开了他混沌的大脑。

1。44。

公式：解析度=k1*λna。

如果介质的折射率从空气的1变成了水的1。44……

等效波长=193nm1。44≈134nm！

不需要研发新的光源！不需要等待那个遥不可及的157纳米雷射！只要在镜头和硅片之间加一层水，现有的设备就能直接突破物理极限！

“水……”倪光南喃喃自语，瞳孔剧烈收缩，“在镜头和晶圆之间……加水？”

“疯了！这简直是疯了！”旁边的老专家惊叫起来，“电子设备最怕水！而且水会產生气泡，会污染光刻胶，高速运动下水的张力怎么解决？这在工程学上是自杀！”

“工程学的问题，只要肯砸钱，总能解决。”陈念站在一旁，淡淡地补了一刀，“但物理学的问题，砸钱也解决不了。”

陈念从公文包里拿出一份文件，那是陈山根据后世记忆整理的《关於浸没式光刻系统的可行性猜想》。

“爸说得对。”陈念把文件递给倪光南，“为什么非要死磕空气？”

倪光南颤抖著手接过文件，只看了第一页的示意图，呼吸就变得急促起来。

那是一个极其大胆、却又在理论上完美闭环的设计。

利用水的折射率，將193纳米的光源“欺骗”成134纳米。这不仅仅是技术的突破，这是思维维度的降维打击！

“快！快！”倪光南突然像个疯子一样大吼起来，把手里的图纸撕得粉碎，“把那台asml的废机器抬过来！拆掉工件台！给我准备去离子水！我们要改装！”

“倪工，这可是价值千万的设备……”

“拆！出了事我负责！”倪光南一把推开阻拦的研究员。

……

凌晨四点。

实验室里一片狼藉。那台原本精密的asml光刻机，此刻被改得面目全非。核心曝光区域被加上了一个简陋的、甚至是用玻璃胶密封的注水槽。

“注水完毕。无气泡。”

“液面稳定。”

“光源预热完成。”

所有人的心都提到了嗓子眼。

陈山依然坐在角落里，手里盘著核桃，神色平静。陈念则站在倪光南身后，目光紧锁著监视器。

“曝光。”倪光南按下了红色的按钮。

“滋——”

看不见的紫外雷射穿过透镜，穿过那层清澈的去离子水，最终轰击在涂满光刻胶的硅片上。