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第76章 真的没办法了吗（第3页）

“慢慢来？”

罗华突然抬高了声音，隨即又意识到自己失態了，深吸一口气，压低了声音。

“我们还有多少时间可以慢慢来？”

实验室里一阵沉默。

大家都知道罗华在说什么。

晶片卡脖子，卡了这么多年。

光刻机，光刻胶，计算光刻软体……

每一个环节都被国外巨头垄断。

华国投入了天量的人力物力，一批又一批科研人员前赴后继，才勉强追到现在的水平。

可差距依然存在。

尤其是在euv光刻这种最前沿的领域，差距更是明显。

佐藤健一郎的挑衅，虽然难听，但某种程度上……他说的是事实。

至少在光刻数学理论这块，华国確实还没有能和他正面抗衡的成果。

“师兄，你也別太……”

马立明想安慰，却不知道该说什么。

罗华摆摆手，示意自己没事。

他重新看向电脑屏幕，进度条已经走到百分之八十了。

百分之八十，意味著模型还在运行，但也意味著……结果大概率不会太好。

果然，几分钟后，程序弹出了错误提示。

“数值不稳定，发散。”

简简单单七个字，却像是一盆冷水，浇在罗华心头。

他盯著那行字，看了足足一分钟，然后猛地抬手，狠狠拍在了桌子上。

“操！”

一声低吼，在安静的实验室里显得格外刺耳。

林小雨嚇得往后缩了缩，胡伟和马立明也都屏住了呼吸。

罗华很少爆粗口。

他是个典型的学术型人才，性格温和，做事严谨，说话永远不紧不慢。

可现在，他整个人像是被抽乾了力气，瘫在椅子上，眼神空洞地望著天花板。

“师兄……”林小雨小声唤道。

“我没事。”

罗华闭上眼，声音疲惫到了极点，“你们先回去吧，让我一个人待会儿。”

三人对视一眼，知道劝不动，只能默默退出了实验室。

门轻轻关上。

罗华睁开眼，看著电脑屏幕上那个刺眼的错误提示，突然觉得一阵反胃。

他想起了佐藤健一郎在台上那个轻蔑的笑容。

想起了日本代表团鼓掌时那种得意的神情。

想起了国內同行们铁青的脸色，还有网上那些或愤怒或悲观的评论。

“难道……真的就没有办法了吗？”

他喃喃自语，声音里带著一丝绝望。